首台国产商业电子束光刻机面市 精度达0.6纳米

发布 : 2025-8-15  来源 : 明报新闻网 用微信扫描二维码，分享至好友和朋友圈

加关注 明声网温哥华 微信公众号

首台国产商业电子束光刻机近日投入市场，精度达到0.6纳米，专攻量子晶片、新型半导体研发的核心环节，有望助力国产晶片研发制造突破国际封锁。

《杭州日报》昨（14日）报道，浙江大学余杭量子研究院研发的100kV电子束光刻机「羲之」，性能媲美国际主流设备的同时价格低于国际平均水平。「羲之」的外观酷似大型钢柜，研发团队表示，「羲之」光刻机通过高能电子束在矽基上「手写」电路，精度达到0.6纳米、线宽8纳米，可灵活修改设计而毋须掩膜版，适合晶片研发初期的反覆调试。

生产效率低 暂无法量产晶片

此类设备受国际出口管制，国内科研机构长期无法采购，「羲之」投入商用后有望打破困局，目前已有多间企业及科研机构与「羲之」团队洽谈。

报道形容，「羲之」进入应用，标志著量子晶片研发从此有了「中国刻刀」。有分析指出，「羲之」采用的电子束光刻（EBL）技术精度高、成本较低，但生产效率远不及极紫外光刻（EUV）技术，暂时仅适用于晶片科研、设计，无法用作晶片量产。