日邀英特尔合建EUV光刻机中心 助本土研发
发布 : 2024-9-05 来源 : 明报新闻网
用微信扫描二维码,分享至好友和朋友圈 | 加关注
明声网温哥华 微信公众号 |
《日经亚洲》周二报道,日本政府将与晶片巨擘英特尔合作,在日本国内兴建一座极紫外(EUV)光刻机研发中心,建成后将容许不同企业使用,是日本首家同类EUV光刻机中心,有望推动日本国内高端科技开发。
EUV是目前最高级的生产晶片光刻机级别,可以用作生产5纳米或以下制程的先进晶片。报道称,日本经济产业省旗下的产业技术综合研究所(AIST)与美国晶片生产商英特尔(Intel)合作,在3至5年来于日本兴建一所拥有EUV光刻机的设施,设备生产商和材料企业可以缴纳一定费用后使用设施作生产原型产品和进行测试,是日本首家容许不同产业分享使用EUV机的中心。
报道指出,日本至今未有研究机构部署相关设备,而晶片生产商Rapidus亦计划到今年12月才引入EUV光刻机作大量生产高端晶片。由于一部EUV机成本超过2.75亿美元,对很多材料与设备供应商而言难以负担,因此很多企业转而利用海外研究机构的EUV仪器来研发产品。(日经亚洲)